ansys lumerical interconnect集成光学设计和仿真平台
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interconnect是ansys lumerical的光子集成电路仿真器，可验证多模、双向和多通道pic。在通过分层原理图编辑器中创建项目时，用户可以使用丰富的基本元件库以及指定代工厂的pdk元件进行时域或频域分析。
规格概要
●分层原理图设计
●同时支持gui和lumerical脚本编辑
●频域分析
●瞬态块分析
●瞬态样本仿真
●支持多模式和多通道
●混合信号描述
●电光协同仿真
●参数扫描
●统计分析
●紧凑库模型导入
●行波激光器模型
interconnect的主要应用
●光收发器
●wdm系统
●高级调制格式
●调制器
●复杂光纤
●光开关
●紧凑模型库开发
●激光器建模
●光纤和edfa中的光传播
●信号处理
●传感器
●激光雷达
主要特点
pic仿真与设计
用户可使用interconnect的分层原理图编辑器来设计和仿真光子集成线路。interconnect提供包括频域分析，瞬态采样模式仿真和瞬态模块模式仿真。产品提供精密的可视化和数据分析工具，支持参数扫描和设计优化。
eda与pda互操作性
用户可以结合熟悉的主流eda设计工具和工作流程完成仿真和优化设计，以加快设计速度并提高可靠性。
统计分析
可以进行角分析，在建模过程考虑工艺变化对集成芯片性能的影响。可进行蒙特卡罗分析，考虑工艺变化来评估芯片的性能并改善良率。
cml开发与分发
interconnect与lumerical的器件级工具结合起来，可支持pic仿真和设计者完成紧凑模型库（cml）的开发与发布。用户可实验测量数据，以及使用lumerical器件级多物理仿真产品获得的准确仿真结果相结合，即可完成一个cml的创建。
pic元件库
interconnect提供丰富的标准库，包含大量有源和无源光电器件模块，与补充扩展元件库一起，共同完成仿真并提供分析结果。interconnect提供两个扩展库：
●用于激光器建模的扩展元件库
●用于高级系统建模的扩展元件库，包括复杂的光纤，光放大器，fec编码和均衡模型
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